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集成电路制造工艺课件.ppt
资料介绍
光刻是集成电路工艺中的关键性技术。在硅片表面涂上光刻胶薄层，经过光照、显影，在光刻胶上留下掩模版的图形。
在集成电路制造中，利用光刻胶图形作为保护膜，对选定区域进行刻蚀，或进行离子注入，形成器件和电路结构。
随着集成电路的集成度不断提高，器件的特征尺寸不断减小，期望进一步缩小光刻图形的尺寸。
目前已经开始采用线宽为0.2-0.1μm的加工技术。
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| 文件名 | 大小 |
| 集成电路制造工艺课件.ppt | 10M |
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