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半导体制程RCA清洗IC.ppt
资料介绍
化学清洗是利用各种化学试剂和有机溶剂清除附着在物体表面上的杂质的方法。在半导体行业,化学清洗是指清除吸附在半导体、金属材料以及用具表面上的各种有害杂质或油污的工艺过程。
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| 文件名 | 大小 |
| 半导体制程RCA清洗IC.ppt | 20M |
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