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金属基微反射单元阵列
资料介绍
一、基本定义与结构特征
金属基微反射单元阵列是一类由金属材料作为基底或核心功能结构，通过微纳加工技术制备的周期性或准周期性单元排列结构，每个单元具备独立的光反射调控能力，可通过改变单元的几何参数、空间排列方式实现对入射光相位、振幅、偏振等光学参数的精准调控。相较于纯介质型反射阵列，金属基结构利用金属材料的表面等离子体效应、自由电子响应特性，可在更薄的结构厚度下实现更高效率的光反射调控，是超表面、反射阵天线、微纳光学器件领域的核心结构形式之一。
从结构层次划分，典型的金属基微反射单元阵列通常由三层结构构成：最底层为连续金属反射层，作用是完全阻挡透射光，将入射光全部反射回结构上层，常用材料包括金、银、铝、铜等低损耗金属，厚度通常大于入射光的趋肤深度，一般在100nm到1μm之间，可根据工作波长调整；中间层为介质间隔层，起到隔离上层金属结构与底层反射层的作用，通过调整间隔层厚度可以改变单元的反射相位响应范围，常用材料包括二氧化硅、氮化硅、聚酰亚胺等低损耗光学介质，厚度通常在几十纳米到几百纳米之间；最上层为图案化金属微结构单元，是实现光学调控的核心功能层，通过改变单元的形状、尺寸、旋转角度等参数，可调控不同单元位置处的反射光特性，常用材料与底层反射层保持一致，以获得较低的欧姆损耗。
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