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晶圆级封装WLP与扇入型封装技术详解.docx

更新时间:2026-08-31 08:48:29 大小:37K 上传用户:他山之石可攻玉查看TA发布的资源 标签:晶圆级封装WLP扇入型封装RDL凸块制作 下载积分:2分 评价赚积分 (如何评价?) 打赏 收藏 评论(0) 举报

资料介绍

晶圆级封装WLP与扇入型封装技术详解

一、引言

晶圆级封装在整片晶圆上直接完成封装工序,然后切割成单颗芯片,封装尺寸与芯片尺寸几乎相同,是小型化终端半导体封装的核心方案。WLP省去了传统封装中的基板和引线框架,封装厚度薄、尺寸小、成本低,在电源管理芯片、模拟芯片和物联网芯片中广泛应用。

二、WLP的基本原理

2.1 工艺顺序的革命

传统封装先切割晶圆再逐个封装芯片,WLP先在晶圆上完成封装再切割,将封装工序前移到晶圆级。这种工艺顺序的变革带来了成本、效率和尺寸方面的显著优势。

2.2 扇入型WLP

扇入型WLP在芯片的投影面积内制作RDL,将芯片I/O焊盘重新分布到更便于与PCB连接的位置。扇入型WLP的引脚数受芯片面积限制,适用于引脚数较少的芯片。

三、WLP的工艺流程

3.1 晶圆准备

完成晶圆制造和测试后,在晶圆表面涂覆绝缘层,保护芯片表面。

3.2 RDL制作

通过光刻和电镀工艺在绝缘层上制作金属布线层,将芯片的I/O焊盘重新分布到新的焊盘位置。

3.3 凸块制作

在RDL末端制作焊料凸块或铜柱凸块,用于与PCB连接。

3.4 晶圆测试

在晶圆级进行电性能测试,标记不合格芯片。


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