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半导体晶圆厂精密电源系统集成方案设计.docx
资料介绍
STM32G474逆变器系统中半导体晶圆厂精密电源系统集成方案设计
1 概述
半导体晶圆制造对供电质量要求极高，电压波动、频率偏差和谐波干扰都可能影响芯片良率。晶圆厂的关键设备（光刻机、刻蚀机、离子注入机）需要高精度、低纹波的稳定电源，任何供电中断都会造成巨大的经济损失。本节基于STM32G474微控制器，设计面向12英寸晶圆厂的精密电源系统集成方案。
2.2 负荷特性
· 总装机容量：50MW
· 关键负荷：15MW（光刻区、检测区）
· 敏感设备：光刻机、电子显微镜、精密测量
· 冷却负荷：20MW（洁净室空调、冷却水）
3 系统架构
3.1 供电架构
· 主电源：双路110kV独立变电站
· 中压配电：20kV环网供电
· 低压配电：480V/208V分区供电
· UPS：关键负荷专用UPS
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| STM32G474逆变器_技术文件_767_半导体晶圆厂精密电源系统集成方案设计.docx | 38K |
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