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存储网络从NVMe over Fabrics到光互连的演进路径.docx

资料介绍

存储网络:从NVMe over Fabrics到光互连的演进路径

摘要

存储网络技术正从NVMe-oFNVMe over Fabrics)向光互连方向演进。2026年,Marvell发布Photonic Fabric光互连方案,可在跨机架50米范围内建立共享内存层,实现32TBKV Cache卸载。NVMe-oF通过RDMA技术将存储延迟降至微秒级,而光互连进一步将延迟降至亚微秒级,并支持更远的传输距离。本文从存储网络技术演进、产品进展与未来趋势等维度,系统分析存储网络的发展路径。

一、NVMe over Fabrics

NVMe-oF通过RDMA技术(RoCEInfiniBand)实现远程存储访问,延迟降至微秒级。NVMe-oF是当前AI数据中心的主流存储网络方案。

二、光互连方案

Marvell Photonic Fabric利用硅光技术在50米范围内建立共享内存层,实现32TBKV Cache卸载。光互连接替电互连,突破带宽和距离限制。

三、CXL对存储网络的影响

CXL协议通过PCIe物理层实现内存级互连,延迟约200ns,正成为存储网络的新方案。CXLNVMe-oF和光互连形成互补,分别适配不同延迟和距离要求的场景。


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