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GB51034-2014 多晶硅工厂设计规范
资料介绍
GB51034-2014 多晶硅工厂设计规范
1.0.1为规范多晶硅工厂的工程设计,提高工程设计质量,做到技术先进、经济合理、安全可靠、环保节能,制定本规范。1.0.2本规范适用于采用三氯氢硅氢还原法的新建、扩建和改建多晶硅工厂的工程设计,也适用于硅烷歧化法多晶硅厂中三氯氢硅合成、四氯化硅氢化和氯硅烷提纯的工程设计。1.0.3多晶硅工厂设计应积极采用节能、环保、高效、先进的装备和工艺,提高资源、能源利用率,实现物料、能源综合利用和清洁生产。
1.0.4多晶硅工厂设计除应符合本规范外,尚应符合国家现行有关标准的规定。
2.0.1三氯氢硅氢还原法
trichlorosilane hydrogen reduc-tion process经过不断完善的多晶硅生产主流工艺,是将高纯三氯氢硅与高纯氢气按一定比例通人还原炉,发生还原或热分解反应,在
1050'C左右的高纯硅芯基体表面上沉积生长多晶硅;同时具备回收、利用生产过程中伴随产生的氢气、氯化氢、四氯化硅等副产物以及副产热能,最大限度地实现“物料内部循环、能量综合利用”的
多晶硅生产工艺。2.0.2多晶硅
polysilicon单质硅的一种形态,硅原子以晶格形态排列成许多晶核;晶核长成晶面取向不同的晶粒,晶粒组合结晶成多晶硅。根据用途可分为太阳能级和半导体级。
2.0.3还原尾气干法回收
reduction off-gas recovery by dry method一种相对于传统湿法回收尾气工艺的方法,利用尾气中各组分物理化学性质的差异采用冷凝、吸收、解析、吸附等方法,将其逐一分开回收、提纯,再重新返回生产系统循环利用。
2.0.4四氨化硅氢化 silicon tetrachloride hydrogenation一种处理多晶硅副产物四氯化硅的方法,与氢反应将其转换成三氨氨硅。
2.0.5三氯氢硅合成
trichlorosilane synthesis一种制取三氯氢硅的方法,将硅粉和氨化氢通人有一定温度的反应器内通过化学反应生成三氯氢硅。
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| GB51034-2014_多晶硅工厂设计规范.pdf | 5M |
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