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量子阱红外探测器材料体系
资料介绍
一、QWIP材料体系的核心要求
量子阱红外探测器是基于量子限制效应实现红外光吸收与探测的半导体器件,其核心工作原理是:在量子阱结构的导带(或价带)中形成分立的子能级,红外光子能量匹配子能级间能量差时,会激发阱内载流子跃迁到连续态或更高能级的束缚态,在外加偏压下形成可探测的光电流,实现对红外辐射的信号转换。针对这一工作原理,QWIP对材料体系提出了三个核心要求:
1. 带阶匹配要求:势阱材料和势垒材料必须形成特定的能带偏移,能够在目标探测波段形成符合能量要求的束缚子能级。对于常见的中长波红外探测(波长3~14μm,对应光子能量0.09~0.41eV),要求子能级间的能量差恰好匹配对应光子能量,带阶大小需要精确控制在0.1~0.5eV区间内。
2. 晶格匹配要求:量子阱结构是由两种不同半导体材料交替外延生长形成的超晶格结构,为了避免高密度位错缺陷影响载流子输运和器件暗电流性能,势阱与势垒材料的晶格常数必须尽可能匹配,一般要求晶格失配度低于0.2%,否则外延生长会产生大量界面缺陷,导致器件暗电流飙升、探测率下降。
3. 掺杂可控要求:QWIP需要对量子阱区域进行n型或p型掺杂,为基态子能级提供可激发的载流子,因此要求材料具备良好的掺杂特性,能够实现可控的载流子浓度调整,同时掺杂杂质在材料中具备良好的热稳定性,不会在外延生长或器件工艺过程中发生扩散。
二、主流QWIP材料体系分类与特性
目前已经实现商业化应用和深入研究的QWIP材料体系,主要可以分为III-V族化合物半导体体系、II-VI族化合物半导体体系、硅基量子阱体系三大类,其中III-V族体系是当前技术最成熟、应用最广泛的主流材料。
(一)III-V族化合物半导体QWIP材料体系
III-V族化合物半导体的组分可以连续调整,能够精准实现晶格匹配和带阶调控,是最早发展起来的QWIP材料体系,主要包含以下几个典型体系:
1. GaAs/AlxGa1-xAs 体系
GaAs/AlGaAs体系是研究最早、技术最成熟的QWIP材料体系,也是目前商业化QWIP焦平面探测器的主流材料,其核心特性如下:
· 晶格匹配特性:GaAs的晶格常数为0.5653nm,AlAs的晶格常数为0.5660nm,AlGaAs合金的晶格常数随Al组分变化极小,当Al组分在0~0.4范围内变化时,晶格失配度低于0.1%,可以在GaAs衬底上实现近乎完美的晶格匹配外延生长,能够生长出上千周期的量子阱超晶格结构,界面质量极高,位错密度可以低至104cm-2以下。
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