SJ_T 10553-2021 电子陶瓷用二氧化锆中杂质的发射光谱分析方法

更新时间：2023-12-27 12:48:23 大小：564K 上传用户：sun2152 查看TA发布的资源 标签：光谱分析 下载积分：9分评价赚积分（如何评价?）打赏收藏评论(0) 举报

资料介绍

SJ_T 10553-2021 电子陶瓷用二氧化锆中杂质的发射光谱分析方法本标准按照GB/T1.1-2009制定的规则起草。请注意本文件的某些内容可能涉及专利。本文件的发布机构不承担识别这些专利的责任。本标准代替SJ/T10553-1994《电子陶瓷用二氧化锆中杂质的发射光谱分析方法》，本标准与SJ/T 10553-1994相比，主要有如下变动：一一按GB/T1.1-2009规定的格式进行了修改。删除了“米吐尔一一海德路显影液和定影液”中的“米吐尔一一海德路”。（见3.10，SJ/T 10553-1994的3.j）一一将光谱干板由国产I型改为国产Ⅱ型，型号为9×24规格。（见3.9，SJ/T10553-1994的3.1） “交流电弧发生器”修改为“直流电弧发生器”。（见4.2，SJ/T10553-1994的4b）一一仪器设备中增加了马弗炉、烘箱。（见4.9，4.10）一一分析步骤中增加了预曝光时间。（见6.2）本标准由全国半导体设备与材料标准化技术委员会（SC/TC203）提出并归口。本标准规定了电子陶瓷用二氧化结中杂质的发射光游分析方法。本标准适用于电子陶瓷用二氧化结中铁，硅，磷，钙，镁和钛的氧化物杂质测定的中型摄谱议方法？方法提要一氧化错与石墨粉泥合物（内含1%三氧化二结）泥匀，石墨粉起缓冲剂和稀释剂的作用，使激发稳定，用结和结做内标，将被测样品和标准样品的光谐摄在司一张光谱干板上，利用内标法进行杂质含量的测定。 3试剂或材料 3.1三氧化二铁，分析纯3.2二氧化硅，分析纯. 33焦顾酸镁，分析纯 3.4碳酸钙，分析纯。 35二氧化钛，分析纯 3.6二氧化情，光谱纯。 3.7三氧化二结，分析纯 3.8石是粉，光潜纯 3.9光谱干板，国产川型，规格为9×24. 3.10影液和定影液（按光谱感光板使用说明书配方配制）. 3.11右录电极。光佛纯，直径为6mm，误差为+02mm以内。 4仪器或设备 41中型摄谱仪 4.2直流电弧发生器 4.3测微光度计. 4.4映谱仪. 4.5分析天平，精度为0.0001g- 4.6车制石墨电极的小车床。 4.7玛瑙研体 4B秒表. 49马弗炉。 4.10棋箱与试样 5.1标样配制将二氧化钻和各待测氧化物于900℃約烧2h，焦砖酸镁灼烧4h，碳酸钙于150℃烘干2h。按计算量，在二氧化结中加入各杂质氧化物和盐类，配成主标样，再用二氧化皓逐个稀释，制得一套标样，其含量见表1。再与等量石墨粉〔内含1%三氧化二钴）混匀。 5.2样品处理试样多为团块状，应小心研细，直至和标样粒度相叙（能通过200日标准筛孔），与等量石墨粉（内含%1三氧化二钴）混匀， 6分析步腰 6.1将经处理的样品装入电极小孔，装紧填平，在200℃左右烘烤2h，立即摄谱，电极形状如图1所示， 6.2采用三透镜照明系统摄谱，使用三阶梯减光器透光率100%和50%两阶，直流电孤阳极激发，电流强度10A，狭缝宽度15um，电极间隙为2mm，误差为+0，2mm以内，遮光板3，2mm，摄语范国为250mm-320nm，预曝光2s-3s后曝光30s，每个样品摄谐三次，将Ⅱ型感光板在显影液中显影3min，温度为18℃-20℃，然后定形、水洗，干燥。 7结果计算在测微光度计上，测量分析线对的黑度，绘制△S（PO5用△P）一1gC工作曲线，由工作曲线查出试样中杂质的含量。△$为分析线黑度与内标线黑度之差，gC为标准样品中分析元素含量的对数。分析线与定含量范用见表2。