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射频源控制信号模拟器的设计与应用
资料介绍
熟悉微电子工艺设备的人都知道，射频源（RFGENERATER）是半导体工艺不可缺少的设备，其主要应用于等离子体干法刻蚀设备。其原理是刻蚀气体（主要是F基和C1基的气体）通过气体流量控制系统通进反应腔室，在高频电场（频率通常为13.56MHz）作用下产生辉光放电，负气体分子或原子发生电离，形成等离子体（Plasma）。
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| 文件名 | 大小 |
| 射频源控制信号模拟器的设计与应用.docx | 349K |
全部评论(1)
2023-08-29 08:27:07ayslwx
很专业的资料，谢谢分享