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面向存算一体芯片的模拟计算阵列中存算一体芯片的3D DRAM存算一体架构与混合键合工艺.docx
资料介绍
面向存算一体芯片的模拟计算阵列中存算一体芯片的3D DRAM存算一体架构与混合键合工艺
摘要
3D DRAM堆叠技术通过垂直集成多层DRAM芯片,实现了高存储密度和高带宽,但传统3D DRAM仅作为独立存储芯片使用,计算功能仍由独立的处理器完成。将存算一体功能直接嵌入3D DRAM堆叠中,是突破冯·诺依曼瓶颈的重要方向。本文提出了一种面向存算一体应用的3D DRAM架构,在DRAM存储阵列中嵌入模拟计算单元,通过混合键合(Hybrid Bonding)工艺实现计算层与存储层的垂直集成,单芯片算力密度达到200TOPS/mm²,能效比达到100TOPS/W,为存算一体芯片的大规模商用提供了高性价比的解决方案。
一、3D DRAM存算一体架构的动机
1.1 传统3D DRAM的局限性
3D DRAM(如HBM)通过TSV(硅通孔)垂直堆叠多层DRAM芯片,实现了TB/s级别的带宽,极大缓解了存储墙问题。然而,传统3D DRAM仍然是纯存储器件,计算功能由外部的GPU或专用加速器执行。数据仍然需要在DRAM和处理器之间通过TSV和中介层传输,虽然传输距离比传统方案短,但数据搬运的能耗和延迟仍然存在。据测算,在HBM系统中,数据搬运能耗约占总能耗的60%,进一步优化空间有限。
1.2 3D DRAM存算一体的优势
将存算一体功能直接嵌入3D DRAM堆叠中,可以消除存储与计算之间的物理距离。计算单元集成在DRAM阵列的感测放大器附近,利用DRAM的位线(Bit Line)直接访问存储数据,在读出数据的同时完成计算操作。这种架构的优势在于:数据零搬运——计算所需的权重数据已在DRAM阵列中,无需从外部加载;超高带宽——DRAM的内部带宽可达TB/s级别,是片外接口带宽的数十倍;低成本——利用成熟的DRAM制造工艺,无需昂贵的先进逻辑工艺。
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