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集成电路设计的现状与未来
大小：1M 更新时间：2021-08-27 下载积分：2分
1）摩尔定律： IC集成度每18个月增加一倍 特征线宽每3年缩小30％2）集成电路一直是工业领先与理论 工艺制造领先与设计的领域3) 电子产品中 集成电路所占成本从 5－10％增加到 30％－35％
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关于芯片和芯片设计的科普_集成电路设计人员给家人的科普
大小：12M 更新时间：2021-08-27 下载积分：2分
自从IC诞生以来，IC芯片的发展基本上遵循了公司创始人之一的Gordon E. Moore 1965年预言的摩尔定律。该定律说： 当价格不变时，集成电路上可容纳的晶体管数目，约每隔18个月便会增加一倍，性能也将提升一倍。换...
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半导体制程培训CMP和蚀刻
大小：6M 更新时间：2021-08-27 下载积分：2分
刻蚀（Etch），它是半导体制造工艺，微电子IC制造工艺以及微纳制造工艺中的一种相当重要的步骤。是与光刻相联系的图形化（pattern）处理的一种主要工艺。
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