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TWINSCAN XT系列光刻机产品介绍.docx
资料介绍
TWINSCAN XT系列光刻机产品介绍
一、产品概述
TWINSCAN XT系列是ASML推出的面向先进芯片制造环节的浸没式光刻系统产品序列，该系列产品依托ASML在光学光刻领域积累的核心技术，主打高生产率、高分辨率与工艺稳定性，能够满足14nm到7nm节点逻辑芯片与存储芯片的量产制造需求。作为ASML浸润式光刻技术商业化推广阶段的核心产品序列，TWINSCAN XT系列在全球高端芯片制造工厂中拥有极高的装机量，是推动摩尔定律延续的核心生产设备之一。
二、核心技术特点
· 双工作台系统TWINSCAN系列的核心设计就是双工作台架构，XT系列延续了这一优势设计。两个工作台可分别完成晶圆曝光与晶圆对位测量工序，在完成当前晶圆曝光的同时完成下一片晶圆的对准与调焦操作，大幅减少设备待机时间，单位时间晶圆产出量比单工作台设计提升超过30%，满足芯片制造厂大规模量产的产能要求。
· 193nm浸没式光刻技术XT系列全部采用193nm ArF准分子激光光源，搭配浸没式液膜技术，通过去离子水替代空气作为投影镜头与晶圆之间的介质，将光学系统的数值孔径（NA）提升至1.35，在不缩短光源波长的前提下突破衍射极限，获得比传统干式193nm光刻更高的分辨率，能够实现最低7nm节点的光刻工艺制造，成为摩尔定律推进过程中193nm浸没式替代EUV投产前过渡阶段的核心设备。
高精度投影光学系统ASML为XT系列定制了大口径高均匀
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