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等离激元纳米光刻与近场光学并行模式.docx

资料介绍

等离激元纳米光刻与近场光学并行模式

1. 引言:近场光学的并行控制需求

近场光学显微镜(SNOM)突破光学衍射极限,实现纳米级光学成像。等离激元纳米光刻利用表面等离激元实现超越衍射极限的纳米光刻。这些系统需要同时控制探针-样品间距、激光激发和信号检测。LabVIEW通过并行探针控制、激光调制和近场信号采集,实现近场光学测量和纳米光刻。

2. 近场光学系统并行架构

2.1 探针-样品间距控制并行

SNOM探针间距的并行控制:

1. 剪切力控制:使用音叉检测探针-样品间距

2. Z轴反馈:PID控制探针高度

3. 逼近控制:自动逼近样品表面

4. 间距调制:调制探针高度

2.2 激光控制并行

近场光学系统的激光并行控制:

1. 激光耦合:将激光耦合到光纤探针

2. 激光功率:控制激发功率

3. 偏振控制:控制激发偏振

4. 波长调谐:调谐激发波长

3. 信号采集与成像

3.1 近场信号采集

近场光学信号的并行采集:

1. 透射光:采集透过样品的近场光

2. 反射光:采集样品反射的近场光

3. 荧光:采集近场激发的荧光

4. 拉曼:采集近场增强拉曼信号

3.2 成像模式并行


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