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面向存储芯片的先进工艺中芯片堆叠与异构集成技术从HBM到Chiplet的演进.docx
资料介绍
面向存储芯片的先进工艺中芯片堆叠与异构集成技术从HBM到Chiplet的演进
——从垂直堆叠到水平扩展的存储芯片集成架构
引言
芯片堆叠与异构集成技术是存储芯片实现高密度、高带宽和低功耗的关键技术路径。从HBM的垂直堆叠到Chiplet的水平扩展,存储芯片的集成架构经历了从简单堆叠到异构集成的演进。HBM通过TSV和微凸块将多层DRAM芯片垂直堆叠,实现了高带宽的存储访问。Chiplet通过将不同功能的芯片(如存储控制器、NAND闪存和接口芯片)封装在一起,实现了模块化的存储系统。本文系统分析面向存储芯片的先进工艺中芯片堆叠与异构集成技术。
芯片堆叠技术
垂直堆叠
垂直堆叠通过TSV和微凸块实现芯片的垂直互联:
1. TSV:硅通孔通过刻蚀和电镀在芯片中制作,穿过硅衬底,实现垂直互连,TSV直径约5μm至10μm。
2. 微凸块:芯片之间的微凸块互连,微凸块间距从40μm缩小到20μm,互连密度提高4倍。
3. 混合键合:Cu-Cu混合键合实现芯片间的直接键合,键合间距缩小到1μm以下,互连密度提高100倍以上。
HBM堆叠
HBM(高带宽存储器)的堆叠架构:
1. DRAM芯片堆叠:HBM3E支持12层DRAM芯片堆叠,HBM4支持16层,每层厚度约30μm至50μm。
2. 逻辑基片:在HBM堆叠的底部配置逻辑基片,包含I/O电路和测试电路,逻辑基片采用先进工艺节点。
3. TSV互连:DRAM芯片通过TSV垂直互连,TSV穿过DRAM芯片,连接各层的存储阵列。
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