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广立微:晶圆良率提升的幕后推手.docx

更新时间:2026-09-06 12:40:22 大小:37K 上传用户:他山之石可攻玉查看TA发布的资源 标签:广立微晶圆良率EDADFMWAT测试设备 下载积分:2分 评价赚积分 (如何评价?) 打赏 收藏 评论(0) 举报

资料介绍

广立微:晶圆良率提升的幕后推手

一、引言

广立微是专注于制造端EDA和良率分析的国产企业,深度绑定中芯国际等国内头部晶圆厂。广立微的DFM和良率分析平台在中芯国际7nm产线良率爬坡中发挥了关键作用,使良率爬坡周期缩短15%WAT测试设备在晶圆制造环节市占率已超50%

二、广立微的核心产品

2.1 DFM工具

广立微的DFM工具在可制造性设计分析领域市占率达58.4%,在晶圆厂良率提升中发挥着不可替代的作用。

2.2 WAT测试设备

WAT测试设备在晶圆制造环节中用于电性测试,广立微在该领域的市占率已超过50%

三、广立微的技术优势

制造端深度绑定:广立微的工具与晶圆厂的制造工艺深度绑定,形成了较高的客户粘性。

EDA软件+硬件设备闭环:广立微的EDA软件和WAT测试设备形成闭环,提供从设计到制造的全链条服务。

四、广立微的战略布局

4.1 硅光EDA

广立微通过收购全球硅光设计自动化领军企业LUCEDA,卡位光子芯片设计工具赛道,抢占CPO时代的技术制高点。

4.2 可测试性设计

广立微的DFT EDA工具架构已全面升级,在芯片设计阶段就考虑制造测试需求。


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