推荐星级:
  • 1
  • 2
  • 3
  • 4
  • 5

集成电路封装中低压等离子清洗及其应用

更新时间:2020-10-24 10:40:08 大小:757K 上传用户:gsy幸运查看TA发布的资源 标签:集成电路 下载积分:1分 评价赚积分 (如何评价?) 打赏 收藏 评论(0) 举报

资料介绍

半导体的封装设计中,引线与基板之间的焊接质量是影响半导体寿命和可靠性的重要指标,其中焊球与基板之间的附着力又是这一关键指标中的重要组成部分。针对此,本文通过介绍低压等离子清洗技术的原理及其特点,并通过管座芯片和电容柱键合后的接触角实验和剪切推球实验,分析了低压等离子清洗技术通过对基板表面改性的方式提高焊球与基板之间附着力的作用原理,实验结果表明,管座清洗后可以有效去除键合区表面的各种污染物,提高键合区表面的润湿性和附着力,进而提高半导体的可靠性。

The welding quality between the wire and the substrate is an important indicator that affects the life and reliability of semiconductor in the semiconductor packaging design,wherein,the adhesion between the wire and the substrate is the important s paper introduces the principle and characteristics of low pressure plasma cleaning technology,at the same time,through the shear ball experiment and contact angle experiment,this paper analyzes the action principle of low pressure plasma cleaning technology by the way of substrate surface modification to improve the adhesive bonding between the wire and the substrate. Experimental results show that the plasma cleaning can effectively remove a variety of contamina...

部分文件列表

文件名 大小
集成电路封装中低压等离子清洗及其应用.pdf 757K

【关注B站账户领20积分】

全部评论(0)

暂无评论

上传资源 上传优质资源有赏金

  • 打赏
  • 30日榜单

推荐下载