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芯片制造过程中的微影技术
资料介绍
半导体工业在光学微影技术的帮助下,长期形成持续且快速的成长态势,但光学微影在面对更精密的工艺流程已开始出现应用瓶颈,尤其在小于0.1微米或更精密的工艺流程,必须使用先进光学微影或非光学微影术予以克服。
部分文件列表
| 文件名 | 大小 |
| 芯片制造过程中的微影技术.pdf | 487K |
半导体工业在光学微影技术的帮助下,长期形成持续且快速的成长态势,但光学微影在面对更精密的工艺流程已开始出现应用瓶颈,尤其在小于0.1微米或更精密的工艺流程,必须使用先进光学微影或非光学微影术予以克服。
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| 芯片制造过程中的微影技术.pdf | 487K |
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