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背照式CMOS图像传感器
资料介绍
一、基本定义与结构原理
背照式CMOS图像传感器(Backside Illumination CMOS,简称BSI CMOS)是CMOS图像传感器的一种优化结构类型,区别于传统的前照式CMOS(FSI CMOS),其核心设计思路是将感光面翻转,让光线从晶圆背面入射,解决了前照式结构中金属布线层遮挡光线的问题,从结构层面提升了传感器的感光性能。
传统前照式CMOS的结构顺序,从入射光方向到芯片基底依次是:微透镜→彩色滤光片→像素电路金属布线层→光电二极管。光线在到达光电二极管之前,需要穿过布满金属走线的布线层,金属走线会遮挡大约30%~40%的入射光线,即使在小像素尺寸下,这种遮挡效应会更加明显。而背照式CMOS通过晶圆减薄、翻转绑定工艺,将结构顺序调整为:微透镜→彩色滤光片→光电二极管→金属布线层,光线不需要穿过金属布线层就能直接被光电二极管捕获,大幅提高了光线利用率。
二、发展历程
背照式结构的概念其实早在上世纪60年代就已经被提出,但受限于当时的半导体加工工艺,无法实现大尺寸晶圆的减薄与精准绑定,所以一直停留在理论阶段,直到2000年后消费级电子对高画质、小像素的需求激增,才推动了背照式CMOS的实用化。
2008年,索尼发布了全球第一款量产的消费级背照式CMOS图像传感器,应用于便携式数码相机与早期拍照手机,一举解决了当时手机拍照夜景效果差的痛点,让背照式CMOS正式进入大众视野。此后三星、OmniVision等厂商纷纷跟进,背照式逐渐替代前照式成为手机、消费级相机图像传感器的主流方案。
2010年后,随着智能手机多摄、高像素化的发展,背照式结构也不断迭代,出现了堆栈式背照CMOS(Stacked BSI),将像素感光层与逻辑处理层分开制造再进行堆叠,既可以缩小像素尺寸,提升像素密度,又可以预留更大的空间给逻辑电路,实现更高的读出速度与更复杂的图像处理,如今主流手机的主摄传感器几乎都采用堆栈式背照结构。近年来进一步发展出叠层式、双层像素堆叠等更先进的背照结构,进一步提升感光性能与对焦能力。
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| 背照式CMOS图像传感器.docx | 16K |
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