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3D NAND多层阵列堆叠MSA-CBA架构实现1000字线超高密度.docx

更新时间:2026-08-19 08:25:40 大小:37K 上传用户:江岚查看TA发布的资源 标签:D NANDMSA-CBA多层阵列堆叠铜直接键合超高密度闪存 下载积分:2分 评价赚积分 (如何评价?) 打赏 收藏 评论(0) 举报

资料介绍

3D NAND多层阵列堆叠MSA-CBA架构——实现1000字线超高密度闪存

摘要

铠侠与闪迪在2026 VLSI上联合推出MSA-CBA(多层阵列堆叠-CBA)架构,通过晶圆对晶圆(W2W)铜直接键合工艺完成多片存储阵列晶圆的逐层堆叠,实现1000根以上字线的超高密度3D NANDMSA-CBA采用F2FB2F两种键合模式交替堆叠,每片阵列承载218根字线,原型样片实现两组17层阵列堆叠。本文从MSA-CBA架构原理、键合工艺、QLC可靠性验证与产业化前景等维度,系统分析这一前沿技术。

一、MSA-CBA架构原理

传统单层CBA架构仅能堆叠单组存储阵列,当字线层数超过400层时出现单元电流衰减、晶圆翘曲和存储块膨胀三大问题。MSA-CBA通过多层阵列堆叠,在CMOS基底晶圆上逐层贴合多片独立存储阵列晶圆,将总字线规模拓展至1000根以上。

二、键合工艺突破

MSA-CBA采用F2FB2F两种铜直接键合模式交替堆叠。核心制造瓶颈来自剥离SL层后产生的微米级台阶,通过二氧化硅填充和差异化CMP平坦化工艺消除台阶落差,自研晶圆对准校正技术可补偿翘曲晶圆偏移误差。


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