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  • ald原子层沉积设备原理特点

    大小：6M 更新时间：2025-03-31 下载积分：2分

    1. ALD的基本原理自限制性表面反应：ALD通过交替通入两种或多种前驱体气体，利用材料表面化学吸附的自限制性，逐层生长薄膜。每循环仅沉积单原子层，实现原子级厚度控制。典型步骤：前驱体A脉冲：前驱体A吸附在基底...

    标签：ald原子沉积设备
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leomiao

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