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0.8um高压BCD电路漏电失效改善

更新时间:2020-06-06 08:02:47 大小:3M 上传用户:songhuahua查看TA发布的资源 标签:电路漏电 下载积分:5分 评价赚积分 (如何评价?) 打赏 收藏 评论(0) 举报

资料介绍

0.8um高压BCD(Bipolar-CMOS-DMOS)电路存在漏电失效,其失效原因是IMD(InterMetal Dielectric)平坦化不良,造成金属2残留短路.通过SOG(spin-on-glass)二次平坦化工艺,大幅改善了IMD的平坦化效果,将平坦化因子由0.35提升到0.90,杜绝了金属2残留,较好地解决了漏电问题,提高了电路成品率.

The leakage failure existing in0.8um high voltage Bipolar-CMOS-DMOS(BCD)circuits iscaused by the metal2residual during the poor planarization of inter-metal dielectric(IMD)and the resultedcircuit-short of different the paper,by developing the twice planarization technology of spin-on-glass(SOG),the planarization effect of IMD is significantly improved with an increasingdegree of planarization from0.35to0.90and an elimination of the a result,the leakagefailureproblem is successfullysolved and the yield of circuits is improved.

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